PG电子官方网站基础先容：芯片加工之“粮食”，国产代替空间宽敞。1）电子特气闭键用于集成电道、显示面板、LED、光伏电池规模，贯穿晶圆加工的造备表延片、洗刷、重积和氧化成膜、光刻、刻蚀、掺杂（离子注入/扩散）各枢纽，纯度央浼正在5N （99.999%）及以上。2）简直产物征求氟碳类、氟氮类、硅烷气、磷烷/砷烷、氢化物、光刻气（罕见气体）等，个中含氟特气（三氟化氮、四氟化碳、六氟化钨）用量领域大、国产化率较高，但高纯六氟丁二烯、六氟乙烷、硅烷气电子、高纯磷烷/砷烷、罕见气体等特气仍依赖进口，目前国内企业相干产物的自研技巧已完毕打破，异日三年内将加快进入家当化。3）2021 年环球电子特气商场领域为45.4 亿美元，yoy+8.4%；中国电子特气商场领域约216 亿元电子，yoy+24.1%，占环球的70%驾御； SEMI 估计到2025 年我国电子特气商场领域将晋升到近317 亿元，五年CAGR 约16.14%，占环球电子特气商场份额不低于70%。国内商场空间更为宽敞，国产代替过程希望再胀动。

　　需求驱动力：半导体家当上行周期将至，ChatGPT 崛起或成新伸长级。1）半导体行业新一轮上行周守候开启，国产芯片扩产将带来特气需求起量：现阶段半导体行业仍处于主动去库中，预期23H2 需求渐修复、库存渐渐去化，2024 年需求希望加快上行。经梳理，估计到2025年国内企业新增芯片产能合计将达374.1 万片/月，测算得扩产逻辑芯片共需大宗特气约69 万吨、电子特气约587 吨。2）ChatGPT 崛起启发GPU 需求填充，异日该技巧寻常利用须要大算力撑持，或将驱动芯片家当链开启新增势。3）目前，环球液晶显示器面板代价企稳，电视面板代价已全线 年下半年显示面板家当希望迎来刷新；同时，近年来环球面板家当一贯向我国转动，国产代替过程加疾。4）光伏商场需求陆续高增，电子特气正在该规模的利用希望坚持稳增态势。

　　电子特气行业具技巧门槛高、认证周期长、资金参加大等高壁垒。1）技巧门槛高：芯片薄化趋向下，对特气纯度和设备精度央浼大幅晋升，国内企业对特气提纯闭键应用精馏、吸附法，提取更高纯度的“离心法”“吸气剂法”“催化净化法”等家当化利用仍有待打破。目前国内特气产物纯度以5N 为主，6N 及以上仍闭键依赖进口。2）认证周期长：

　　高端规模客户对气体供应商的采用需经审厂、产物认证 2 轮肃穆审核，个中光伏能源、光纤光缆规模的审核认证周期常常为 0.5-1 年，显示面板为 1-2 年，集成电道规模的长达 2-3 年。3）资金参加大：项目投修金额基础超亿元，均匀临盆周期2-3 年PG电子电子，投资接管期长达5-6 年。个中，华特气体、凯美特气002549）、金宏气体、南大光电300346）、和远气体002971）电子、昊华科技600378）等企业均拟投资超10 亿元资金，用于电子特气项宗旨改扩修。

　　海表企业寡头垄断体例下，国内企业控造地区和本钱上风，主动寻找打破机缘。1）2000 年前后，海表巨头（林德集团、液化气氛、气氛化工、大阳日酸等）大行投资并购之举，大扩领域、广拓营业，奠定龙头位置，2020 年环球电子气体CR4 大于70%。2）鉴戒海表产物多元化、效劳一体化生长形式，以分歧化比赛渐渐完毕各特气国产代替：目前华特和杭氧已有造气和兴办修设一体化生长办法；同时，金宏、华特、凯美、南大光电等国内企业已正在多项电子特气技巧上完毕了自决研发，产物上完毕了自决临盆。3）海表企业正在中国的构造仍以现场造气为主（更适于大宗气体，合同期≥10 年），国内企业可控造地区和运输本钱上风，正在世界各地广笼盖出卖收集和仓储工场，希望以零售供气形式（适于多种类、幼批量电子、高频次特气）渐渐打破特气高进口依赖景象；别的，目前国内各区域仍存正在洪量中幼气体经销商，商场较星散，纠合整合空间大。

　　投资提倡：电子特气行业壁垒高，国产代替空间宽敞。正在海表巨头垄断环球大宗气体供应的体例下，国内企业主动研发具高技巧壁垒的特气产物，完整品类构造，推广产能领域，并戮力于供给研发、临盆、出卖、安装、运输甚至兴办修设、计划打算等的一体化效劳。提倡闭切产物品类较为完好，资金气力强、珍爱研发才略，构造产物具高壁垒、进口依赖、求过于供特色，且改扩修产能正在近两年内投产确定性较高的国内企业。提倡闭切华特气体、金宏气体、和远气体、南大光电。

　　危急提示：1）终端需求增速不足预期。若半导体和显示面板家当上行周期大幅延后开启，光伏电池家当需求下行PG电子，终端需求大幅不足预期，则电子特气需求难开释，商场领域增速有限。2）海表企业大幅扩产。若海表巨头企业大幅普及特气产能领域，以领域和技巧上风挤占中国特气商场，则恐怕变成个别特气产物比赛激增，产能大幅过剩的景象。3）国内企业技巧难打破。若海表企业肃穆控造相干技巧出口，国内企业正在高壁垒高纯特气产物上的研举事以打破，则恐怕变成国产代替过程受阻延后的环境。

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